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超純水設備結合膜分離技術，利用反滲透結合EDI裝置制備超純水，出水電阻率可達18.2MΩ.cm(25℃)，滿足半導體生產用水的需求。...
超純水設備采用雙反滲透、EDI、拋光混合床相結合的制水工藝，具有水利用率高、運行可靠、經濟合理等特點。...
萊特萊德生產的EDI超純水設備，主要采用的是兩級RO+EDI+精混床除鹽水處理工藝，可以確保處理后的超純水水質電阻率達到18.2MΩ.cm。...
萊特萊德生產的超純水處理設備，水質電阻率達到了18 MΩ*cm(25℃)，完全符合芯片清洗用水要求。...
萊特萊德超純水設備能夠連續穩定地制備高質量的超純水，不會因樹脂再生而停止運行。...
EDI處理裝置廢水產量少，不會污染環境，具有很高的環境效益和經濟效益，具有廣闊的發展前景。...
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