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EDI處理裝置廢水產(chǎn)量少，不會污染環(huán)境，具有很高的環(huán)境效益和經(jīng)濟效益，具有廣闊的發(fā)展前景。...
EDI超純水設(shè)備作為一種生產(chǎn)超純水的新工藝，采用反滲透設(shè)備+EDI+拋光混床工藝，出水電導率可達18.2MΩ，滿足芯片行業(yè)的用水需求。...
萊特萊德芯片生產(chǎn)用超純水設(shè)備通常由石英砂過濾器、活性炭過濾器、阻垢劑、精密過濾器等構(gòu)成預處理系統(tǒng)，RO反滲透主機系統(tǒng)、離子交換混床(EDI電除鹽系統(tǒng))系統(tǒng)等構(gòu)成主設(shè)備系統(tǒng)。...
我們需要知道，EDI超純水設(shè)備通常是由預處理過濾設(shè)備、反滲透設(shè)備和EDI模塊三個單位組合而成，其中預處理過濾設(shè)備和反滲透設(shè)備可以凈化原水達到飲用水標準，而EDI模塊通過電解水質(zhì)達到目標純度。...
萊特萊德超純水設(shè)備在設(shè)計上采用成熟、可靠、自動化程度高的兩級RO+EDI+精混床除鹽水處理工藝，確保處理后出水電阻率達到18 MΩ.CM以上。...
超純水設(shè)備具有連續(xù)出水、無需酸堿再生和無人值守、安裝簡便、操作方便等優(yōu)勢，出水水質(zhì)符合電池用水相關(guān)標準，為半導體用水保駕護航。...
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