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萊特萊德EDI超純水設備產出超純水電阻率可達到18 MΩ*cm(25℃)，可完全應用于芯片制造業。未來，不僅僅是科技時代，更是環保綠色的時代。...

萊特萊德單晶硅清洗超純水設備采用雙級反滲透、EDI、拋光混合床相結合的制水工藝，具有水利用率高、運行可靠、經濟合理等特點。...

超純水，其標準是水電阻率為18.2MΩ-cm。超純水除了水，離子含量接近無，是一種強氧化劑，容易被空氣二次污染，即使儲存，電阻率也下降得很快。...

萊特萊德超純水設備采用EDI技術，減少污染，滿足綠色環保工藝生產的特點，與其他同類產品相比，具有更高的性價比和設備可靠性，助力“點亮”中國“芯”。...

萊特萊德單晶硅超純水設備采用RO反滲透+EDI或混床拋光技術，可根據不同用戶的需要，為不同水質、不同水量、不同水質要求而定制設計的超純水設備，其水質穩定、操作簡單、運行成本低、綠色環保、易維護...

萊特萊德可以為用戶提供更好的超純水質量，有效解決超純水清洗芯片的問題，更好地提高芯片的良品率。...