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為了保證電子芯片的功能完好，在電子芯片清洗時使用超純水可以確保芯片功能穩定，不發生損壞。...
超純水設備應用反滲透工藝和EDI系統相結合的工藝來制取超純水。該設備出水電阻率可達16 MΩ*cm(25℃)，具有環保、經濟、發展潛力巨大等諸多優勢。...
超純水設備還能夠將水中不離解的膠體物質、氣體去除至很低的程度，同時還配備濃水置換技術，防止設備中應用到的膜元件受到微生物污染，影響整體出水水質。...
應用專業的超純水設備即可產出超純水，如今半導體行業常用的就是應用反滲透工藝加EDI系統相結合的超純水設備來制取超純水。該設備出水電阻率可達18 MΩ*cm(25℃)，具有環保、經濟、發展潛力巨大等諸...
超純水設備采用了獨有的靶向離子交換系統，能夠針對超純水中難處理的硼及其他離子實行定向去除，有力保證了出水硼離子能夠穩定≤2ppt。...
超純水設備的EDI處理裝置廢水產出量少，不會對環境造成污染，具有非常高的環境效益和經濟效益。精混床經過技術升級后，無需任何多余操作即可穩定運行，出水水質可以滿足芯片生產用水的相關標準，降低企業...
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